德國實驗室速納米研磨機，高剪切濕法研磨設備CMSD2000,速納米研磨機制造商德國實驗室速納米研磨機，高剪切濕法研磨設備IKN，納米研磨機,納米研磨分散機,德國納米研磨機,小型研磨機是，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被地乳化、分散和粉碎，物料細粉碎
納米研磨機如研磨 納米氧化鋁，納米氧化鋅，納米氧化鈰，納米氧化
納米研磨機是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機適合于需要研磨分散乳化均質的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
1 線速度很高，剪切間隙小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
納米研磨機的惡型號擦痕書
磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和終產品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，須提供準確的參數，以便選型和定制。
