（光伏專用/科研通用兩種應用選擇）

HG-ES光譜橢偏儀是針對光伏太陽能電池研發和質量控制領域推出的高性能光譜橢偏儀。

HG-ES光譜橢偏儀用于測量和分析光伏領域中多層納米薄膜的層構參數（如，厚度）和物理參數（如，折射率n、消光系數k），典型樣品包括：絨面單晶和多晶太陽電池上的單層減反膜（如SiNx，SiO2，TiO2，Al2O3等）和多層減反膜（如，SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx ?/Al2O3?等），以及薄膜太陽電池中的多層納米薄膜。

 特點：

·                         粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量

·                         晶體硅多層減反膜檢測 

·                         秒級的快速測量

·                         一鍵式儀器操作

·                         高品質相位補償

·                               氙燈光源強度優化系統

·                                 退偏糾正

·                                 自動可變入射角度

·                                 背照式CCD光譜采集系統

·                                 自動XYZ載物臺、真空吸附

·                          

應用：

HG-ES光譜橢偏儀的應用覆蓋了傳統光譜橢偏儀所測量的光面基底上的單層和多層納米薄膜，典型應用包括：半導體（如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）、平板顯示（TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等）、功能性涂料：（增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等)、生物和化學工程（有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等）等。

技術指標:

注：(1)：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次所計算的標準差。