- 企業(yè)類型:制造商
- 新舊程度:全新
RIE,全稱是Reactive Ion Etching,反應(yīng)離子刻蝕,一種微電子干法腐蝕工藝。
成熟的技術(shù),龐大的裝機量,是VLSI(標準樣片公司)供應(yīng)商。有單腔手動方片。性價比很高。特別適合高校和研究單位。
高選擇比
1) 尺寸:2-12英寸
2) 直徑:5”或8”
3) 氣體輸入管數(shù)量:4(兩個反應(yīng)氣,一個載氣,一個排空管)
4) 源距平板的距離:2”或者可調(diào)
5) 真空:低于E-7Torr,200L/sec渦輪分子泵及3.5cfm機械泵組合
6) 平板溫度:800℃
7) 射頻電源供應(yīng):600W,13.5MHz
8) 射頻偏壓:300W,13.5MHz
可以提供 反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和PECVD雙系統(tǒng)。








