目標(biāo)
1 通過(guò)化學(xué)氣相沉淀方法將統(tǒng)一的膠片應(yīng)用在硅晶片上。
2 使化學(xué)物質(zhì)沉淀在晶片上。
微米位移傳感器解決方案
在沉淀開(kāi)始前，Kaman傳感器確保金屬盤(pán)與噴灑器保持平行的位置關(guān)系，噴灑器用來(lái)均勻噴射氣體(如圖所示)。傳感器則用來(lái)做校準(zhǔn)裝置，這樣校準(zhǔn)可以定位金屬盤(pán)在一個(gè)合適的位置。Kaman系統(tǒng)提供了模擬和數(shù)字兩種輸出信號(hào)，以防止信號(hào)值超出可承受范圍。如果金屬盤(pán)傾斜，制動(dòng)裝置將校正其位置。
微米位移傳感器特點(diǎn)
1類(lèi)型：SMT-9700
2 直接測(cè)試： 一個(gè)環(huán)直接連接到彈簧浮板傳感器可以直接測(cè)試氣體噴射器的位置。
3 無(wú)需接觸：應(yīng)用渦電流的技術(shù)，每一個(gè)傳感器均可以無(wú)接觸地測(cè)量到目標(biāo)體的位置。
4 應(yīng)用廣泛。
微米位移傳感器能靜態(tài)和動(dòng)態(tài)地非接觸、高線性度、高分辨力地測(cè)量被測(cè)金屬導(dǎo)體距探頭表面的距離。它是一種非接觸的線性化計(jì)量工具。電渦流傳感器能準(zhǔn)確測(cè)量被測(cè)體（必須是金屬導(dǎo)體）與探頭端面之間靜態(tài)和動(dòng)態(tài)的相對(duì)位移變化。
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