小兒腹瀉蒙脫石混懸液研磨均質(zhì)機(jī)，研磨型醫(yī)藥混懸液均質(zhì)機(jī)，小型醫(yī)藥均質(zhì)機(jī)，立式高剪切均質(zhì)機(jī)，多功能納米均質(zhì)機(jī)，止瀉藥均質(zhì)機(jī)，復(fù)方混懸劑均質(zhì)機(jī)，在線式蒙脫石混懸液均質(zhì)機(jī)，小兒腹瀉蒙脫石混懸液均質(zhì)機(jī)

蒙脫石是由顆粒極細(xì)的含水鋁硅酸鹽，較早的資料就有資料記載其具有藥用效果，如在《本草綱目拾遺》中介紹膨潤土可用于治療外傷和解毒，并將其歸納為中藥的一種。蒙脫石混懸液由主藥蒙脫石、助懸劑、矯味劑等組成，用于治療腹瀉及消化道潰瘍等效果顯著。其具有服用劑量準(zhǔn)確、服用攜帶方便、粒度較細(xì)、服用后可快速均質(zhì)到人體消化道、效果更好等多種優(yōu)點。鑒于此，我們擬將蒙脫石制備成混懸劑以克服上述蒙脫石散劑的缺點。混懸液的制備原則首先是使粉粒潤濕并在液體均質(zhì)介質(zhì)中均勻均質(zhì)，保持一定條件使其盡量不聚集，然后采取一定的措施防止結(jié)塊。
 制備方法通常混懸液的有兩種：均質(zhì)法和凝聚法。由于蒙脫石本身的性質(zhì)我們采用的是均質(zhì)法，混懸液中微粒的大小不僅關(guān)系到混懸液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，也會影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測定混懸液中微粒大小及其分布，是評定混懸液質(zhì)量的重要指。由于本研究的蒙脫石采用的是法國益普生公司研制的商品名為思密達(dá)的蒙脫石散劑，故其微粒大小符合要求，無需測其微粒大小。

當(dāng)蒙脫石混懸液的工藝配方確定時，為了降低沉降系數(shù)，我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數(shù)。蒙脫石混懸液粒徑的細(xì)化，取決于均質(zhì)設(shè)備的選擇。如果采用IKN研磨均質(zhì)機(jī)的話，不僅可以對蒙脫石混懸液粒徑進(jìn)行細(xì)化，還可以將混懸液均質(zhì)的更均勻。這取決于上海依肯研磨均質(zhì)機(jī)的特殊設(shè)計，IKN研磨均質(zhì)機(jī)將膠體磨和均質(zhì)機(jī)合二為一，先研磨細(xì)化粒徑，再對物料進(jìn)行均質(zhì)，使蒙脫石混懸液更加細(xì)膩、均勻、穩(wěn)定。

CMD2000模塊化設(shè)計主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時，物料通過投料口進(jìn)入分散腔，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進(jìn)行剪切（原理同上），從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足生產(chǎn)時對于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。蒙脫石混懸液均質(zhì)機(jī)

第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗、中等、細(xì)和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

 流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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